等离子硅烷气体去除装置设备 销售/技术转让/合作开发/生产详细介绍
硅烷气体去除装置，包括：电磁波供应部，振荡产生预设频率的电磁波；放电管，从所述电磁波供应部所供应的所述电磁波及涡流气体产生等离子；涡流气体供应部，向所述放电管供应所述涡流气体；反应炉，通过所述放电管所产生的所述等离子及硅烷气体的反应生成二氧化硅及水；点火部，向所述放电管内供应用以产生所述等离子的初始电子；硅烷气体供应部，位于所述反应炉的上端并向所述反应炉内部的所述等离子供应所述硅烷气体；及气体排出部，排出所述反应炉中所生成的所述二氧化硅及水。
